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长鑫存储恳求一种半导体结构过火制备法子专利,杀青半导体结构的改进盘算推算

发布日期:2024-10-21 13:54    点击次数:145

金融界2024年10月18日音书,国度常识产权局信息显现,长鑫存储本事有限公司恳求一项名为“一种半导体结构过火制备法子”的专利,公开号CN 118782607 A,恳求日历为2023年3月。

专利选录显现,本公开实际例公开了一种半导体结构过火制备法子,其中,半导体结构包括:衬底,衬底包括沿第一想法和第二想法阵列排布的有源柱,有源柱为具有两个分支部的U型有源柱,第一想法和第二想法平行于衬底的平面,炒股开户每一有源柱包括:第一源/漏区,位于有源柱的第一端;第二源/漏区,位于有源柱的第二端,第一端和第二端为有源柱在第三方进取相对的两头,第三想法垂直于衬底的平面,沟谈区,沟谈区位于第一源/漏区和第二源/漏区之间,其中,第一源/漏区、第二源/漏区和沟谈区的导电类型疏导。

着手:金融界

半导体衬底有源柱专利沟谈区发布于:北京市

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